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Huttinger 等離子體射頻電源TruPlasma Match1000此類高頻電源防患于未然：TruPlasma RF 3000 系列因堅(jiān)固結(jié)構(gòu)與效率而出眾。因此，其最佳適用于穩(wěn)定且可再現(xiàn)的等離子體工藝，例如應(yīng)用于純平顯示屏、太陽能電池或半導(dǎo)體制造。這些電源安裝在全球數(shù)以千計(jì)的應(yīng)用中，以確保生產(chǎn)效率工藝結(jié)果。

TruPlasmaDC4010 (G2)脈沖等離子體電源TruPlasma DC 4000 (G2) 系列專為困難材料的直流反應(yīng)濺射而開發(fā)。以脈沖式直流電工作的該款發(fā)生器經(jīng)受住尤為嚴(yán)苛的 PVD （物理氣相沉積）和 PECVD （等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）工藝的考驗(yàn)，這些工藝對(duì)涂層質(zhì)量與生產(chǎn)效率均有*要求。緊湊型直流電源可在脈沖與偏壓模式下使用——亦即兩種設(shè)備集于同一外殼！

TruPlasma Highpulse 4002直流等離子體電源 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可作為直流濺射電源的替代方案，無需改動(dòng)即可用于現(xiàn)有磁控系統(tǒng)。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質(zhì)鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應(yīng)用的首要之選。

TruPlasma MF Serie7000中頻等離子體電源通過 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列可以隨時(shí)掌控工藝流程：此款電源的電弧管理和點(diǎn)火特性具優(yōu)勢(shì)，是用于大面積鍍膜（Large Area Coating）以及雙磁控濺射中高要求反應(yīng)工藝流程的理想供電系統(tǒng)。與此同時(shí)，超過 90 % 的頂尖能量轉(zhuǎn)化率和極為高效的冷卻水管理系統(tǒng)確保*的運(yùn)行經(jīng)濟(jì)性。

TruPlasma Bipolar 4010等離子電源新一代雙極性脈沖發(fā)生器 TruPlasma Bipolar 4000 (G2.1) 系列工藝電源專為借助 PVD、PECVD 和反應(yīng)濺射工藝的等離子體輔助鍍膜技術(shù)而開發(fā)；在太陽能電池與半導(dǎo)體制造、耐磨裝飾涂層涂覆以及建筑玻璃鍍膜中，其憑借靈活可塑的輸出信號(hào)的電弧管理提供出色結(jié)果。